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蘭寶第二課:企業(yè)治理異味過(guò)程中應(yīng)該注意哪些問(wèn)題?
蘭寶第二課:企業(yè)治理異味過(guò)程中應(yīng)該注意哪些問(wèn)題?
發(fā)表時(shí)間:2025-07-03 點(diǎn)擊次數(shù):11
廢氣處理工藝過(guò)程
廢氣經(jīng)預(yù)處理后首先進(jìn)入等離子廢氣處理設(shè)備的核心處理區(qū)域----等離子凈化區(qū),廢氣與低溫等離子體(注入式)發(fā)生充分接觸,大部分廢氣分子被等離子體轟擊、氧化后變成無(wú)毒、無(wú)味的氣體。然后夾雜著部分低溫等離子體的煙氣到達(dá)光化學(xué)模塊,煙氣成分在氧化劑和光的協(xié)同作用下持續(xù)發(fā)生氧化分解,zui終生成二氧化碳和水,從而達(dá)到凈化廢氣的目的。
處理單元介紹
(1)低溫等離子模塊:異味氣體與低溫等離子體發(fā)生充分接觸,異味氣體在低溫等離子體的轟擊作用下,打開(kāi)異味氣體分子鏈,破壞其分子結(jié)構(gòu),發(fā)生一系列復(fù)雜的氧化還原反應(yīng),zui終產(chǎn)物為二氧化碳和水等無(wú)害物質(zhì)。
(2)光化學(xué)模塊:在高強(qiáng)輻照?qǐng)鲎饔孟拢瑥U氣分子的能態(tài)發(fā)生變化,由低能態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)楦吣軕B(tài),并伴隨產(chǎn)生活潑的次生氧化劑,廢氣分子在氧化劑和光的協(xié)同作用下持續(xù)發(fā)生氧化分解,zui終生成二氧化碳和水,達(dá)到廢氣凈化的目的。
(3)全自動(dòng)化水質(zhì)監(jiān)控系統(tǒng):等離子廢氣處理設(shè)備具備全自動(dòng)化水質(zhì)監(jiān)控系統(tǒng),可對(duì)設(shè)備水質(zhì)進(jìn)行實(shí)時(shí)檢測(cè)和監(jiān)控,始終控制水質(zhì)在正常運(yùn)行范圍之內(nèi),保證系統(tǒng)的正常運(yùn)行和高的處理效率。
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